等離子表面處理提高氧化鋯陶瓷粘接性能

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-04-18

氧化鋯陶瓷修復(fù)體在牙科領(lǐng)域已得到了廣泛的應(yīng)用，如全瓷冠、冠橋、貼面、種植體等。氧化鋯在室溫下一般為單斜相，因而加入氧化釔來維持四方相，該四方相氧化鋯被稱為“釔穩(wěn)定的四方氧化鋯多晶”。與其他牙科陶瓷相比，釔-四方氧化鋯多晶具有良好的生物相容性、優(yōu)異的力學(xué)性能和光學(xué)性能，是一種極具發(fā)展?jié)摿Φ奶沾刹牧?。傳統(tǒng)的氧化鋯陶瓷因半透性較差，美觀效果不佳，在美學(xué)修復(fù)區(qū)的應(yīng)用有所限制。近年來，出現(xiàn)了高透明氧化鋯以及超透明氧化鋯，能滿足前牙區(qū)的美學(xué)修復(fù)，使得氧化鋯的使用更加廣泛，可用于全鋯冠、貼面、嵌體、粘接橋等，但單純氧化鋯無法獲得較好的化學(xué)粘接，粘接強(qiáng)度不足，臨床應(yīng)用受限。

在口腔醫(yī)學(xué)領(lǐng)域中，為了提高氧化鋯陶瓷的粘接性能，更好地將其應(yīng)用到牙科修復(fù)中，國內(nèi)外許多研究學(xué)者將等離子體材料表面改性技術(shù)引入到氧化鋯處理中，并且取得了顯著成效。

等離子表面處理

在材料表面改性應(yīng)用中，等離子體材料表面改性是各類方法中發(fā)展最快的，是材料研究領(lǐng)域的熱點(diǎn)。研究發(fā)現(xiàn)，在等離子體材料表面改性中，等離子體中的活性物質(zhì)及高能粒子發(fā)揮著重要作用，它們與材料表面相互作用。具體來講，一方面，等離子體中具有許多高能帶電粒子，這些粒子所帶能量遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于一般物質(zhì)的化學(xué)鍵鍵能，因此，在電場作用下，這些高能帶電粒子能將材料表面原有化學(xué)鍵打開，并經(jīng)過重新組合形成具有新特性的化學(xué)鍵，從而使材料表面化學(xué)性質(zhì)發(fā)生改變；另一方面，等離子體中的高能帶電粒子不斷對材料表面進(jìn)行轟擊，刻蝕材料表面，使其表面粗糙化，同時(shí)依靠能量傳遞使材料表面能發(fā)生變化，最終達(dá)到材料表面改性目的。

等離子處理氧化鋯陶瓷處理時(shí)間以及保存時(shí)間對接觸角影響

表面化學(xué)活性的激活和表面形貌的粗糙化是氧化鋯粘接性能提高的主要原因。等離子體中•OH等活性物質(zhì)和亞穩(wěn)態(tài)Ar原子、電子等高能粒子能夠清除氧化鋯表面污染物，降低疏水基團(tuán)(-CH2)相對含量，并與氧化鋯表面反應(yīng)，提高含氧化學(xué)基團(tuán)(C=O)相對含量；同時(shí)在高能電子、電子激發(fā)溫度和亞穩(wěn)態(tài)Ar原子等作用下氧化鋯表面粗糙化。最終，在氧化鋯表面化學(xué)結(jié)構(gòu)成分和形貌的雙重作用下，氧化鋯粘接性能得到顯著提高。

等離子體表面處理（surfacemodificationbyplasma）通過高活性粒子將大分子鏈分裂成更小的粒子，打破C-H和C-C等化學(xué)鍵，通過化學(xué)還原作用溶解碎屑以達(dá)到清潔的效果，其表面形貌不發(fā)生改變，可以用于提高陶瓷表面的粘接強(qiáng)度。